Новый метод моделирования физических процессов PPPL делает производство микрочипов эффективным

22.03.2022 Выкл. Автор Гордей

Сотрудники Принстонской лаборатории физики плазмы (PPPL) Министерства энергетики США повысили производительность производства микрочипов за счет моделирования физических производственных процессов, пишет vestinew.ru. В работе использован процесс атомно-послойного травления кремния с попеременным воздействием газообразного хлора и ионов плазмы аргона.

Это позволяет удалять с поверхности отдельные атомарные слои. Кроме того, эта технология подходит для гравировки трехмерных структур на кремниевой пластине. Эти структуры могут быть в тысячи раз тоньше человеческого волоса.